半導體廠中的壓縮空氣系統主要用于多個關鍵工藝步驟，以確保半導體產品的生產效率和品質。具體來說，壓縮空氣系統的作用包括以下幾個方面：

　　刻蝕工藝輔助：在半導體生產過程中，刻蝕工藝是利用氣體的化學性質進行材料去除的關鍵步驟。壓縮空氣系統可以提供一個穩定的輔助氣體環境，幫助刻蝕過程中的物質高效擴散，從而提高刻蝕效率。這是因為壓縮空氣能夠保持一個干燥、潔凈的氣體氛圍，有利于刻蝕反應的進行。

　　噴霧工藝支持：半導體生產過程中，如刻蝕時需要向反應室中噴灑反應氣體和拋光液等。這些液體需要通過壓縮空氣進行噴霧，以確保均勻和高效的液體輸送。壓縮空氣的潔凈度和穩定性對于噴霧效果至關重要，直接影響產品的生產質量。

　　氣體輸送：在半導體生產中，經常需要輸送各種氣體，如制粒過程中的惰性氣體、晶圓表面的氧氣等。壓縮空氣系統能夠提供高壓力的輸送載體，使氣體快速、準確地移動到制品表面，從而保證生產的高效性和穩定性。

　　供應工藝需求：在某些工藝步驟中，如光刻工藝，需要將光刻膠均勻噴涂在芯片表面。壓縮空氣系統可以為光刻噴頭提供穩定和高壓力的氣體，確保光刻膠均勻沉積在芯片表面，滿足工藝需求。

　　潔凈室環境維護：半導體生產對潔凈度要求極高，一粒微小的灰塵都可能導致整個電路的失效。壓縮空氣系統通常與潔凈室環境維護相結合，通過提供高質量的壓縮空氣，減少空氣中的塵埃和污染物，從而維護潔凈室的潔凈度。

　　節能與環保：隨著技術的進步，半導體廠中的壓縮空氣系統還注重節能與環保。例如，采用變頻技術的空氣壓縮機可以根據實際用氣需求調整電機轉速，降低能耗。同時，通過余熱回收系統回收壓縮過程中產生的熱能，用于生產熱水或熱風等，實現廢熱零排放。

　　綜上所述，半導體廠中的壓縮空氣系統在刻蝕、噴霧、氣體輸送、供應工藝需求以及潔凈室環境維護等多個方面發揮著重要作用。同時，隨著技術的不斷發展，壓縮空氣系統還越來越注重節能與環保性能的提升。